샌드블라스팅 몰리브덴 플레이트
제품특징
우리는 이 샌드블래스팅 몰리브덴 플레이트를 "고급-산업용 고온-내열성 핵심 부품 재료"로 포지셔닝합니다. 주로 고온 강도, 열 안정성, 표면 기능성을 동시에 고려해야 하는 분야에 사용됩니다. 광택 또는 거울 몰리브덴 판과 달리 샌드블래스팅은 고유한 표면 특성을 제공하므로 우수한 기계적 물림, 코팅 접착 또는 빛 반사가 필요한 응용 분야의 기판 또는 직접 작업면으로 특히 적합합니다.
진공로 제조, 반도체 장비 또는 현장의 핵심 부품이든 이 몰리브덴 플레이트는 고객이 비용을 유지하고 안정적인 품질로 전반적인 시스템 신뢰성을 향상시키는 데 도움이 될 수 있습니다. 일반적인-용도 재료는 아니지만 전문 사용자를 위한 '문제 해결사'입니다.{2}}고온 산화, 열 매칭 퍼즐 또는 표면 처리 요구 사항에 직면했을 때 이것이 해답이 되는 경우가 많습니다.
낮은 열과 높은 열전도율:
열에도 크게 변하지 않고 많은 전자물질이나 세라믹과 잘 어울려 기능합니다. 또한 열을 효과적으로 전달하여 부품이 한 지점에서 과도하게 가열되어 파손되는 것을 방지합니다.
분사된 표면의 장점:
균일하고 거친 표면은 물건의 접착력을 더욱 효과적으로 높여 겹겹이 쌓거나 코팅하거나 조각을 합치는 데 탁월합니다. 평평한 표면과 달리 빛이 이상하게 반사되지 않으므로 명확하게 보거나 정확하게 측정해야 하는 사물에 대해 더 효율적으로 렌더링됩니다. 또한 샌드블래스팅은 때와 오래된 지층을 제거하여 층을 더 깔끔하고 오래 지속시킵니다.
기계 친화적:
단단하지만 꼼꼼하게 펴 바르고 따뜻하게 하여 평평하고 매끈하게 만들어줍니다. 이렇게 하면 분할, 결합 또는 형성이 간단해집니다. 우리는 모든 그룹이 얼마나 두껍게 구성되어 있는지, 얼마나 밀도 있게 존재하는지 검사합니다. 고르지 못한 코팅은 어떤 의미로 작용하므로 바로 사용할 수 있도록 준비되어 있습니다.

제품 매개변수
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목 |
분사기 몰리브덴 플레이트 |
광택/광택 몰리브덴 플레이트 |
분사기 버전의 장점 |
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표면 거칠기(Ra) |
3.2–6.3 µm(맞춤형) |
<0.1–0.8 µm |
코팅 접착력을 대폭 향상 |
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코팅 접착력 |
우수(강한 기계적 연동) |
보통의 |
열 분사, 세라믹 코팅 등에 이상적입니다. |
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빛 반사율 |
낮은 |
높은 |
광 간섭을 줄여 정밀 장비에 적합 |
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높은-온도 산화 저항성 |
양호(표면질감이 보호막 형성에 도움이 됨) |
좋은 |
코팅 응용 분야에서 더욱 안정적입니다. |
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기계 조립 그립 |
강한 |
약한 |
구조적 고정에 더 적합 |
| 비용 |
중간에서 낮음 |
더 높은 |
보다 경제적인 처리 |
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일반적인 애플리케이션 |
로 라이닝, 타겟 기판, 코팅 기재 |
광학 부품, 전자 전극 |
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응용 장점
진공로 및 고온-열처리 장비
용광로 탱크, 가열 차폐 또는 지지 구조로서 분사 표면은 단열재 또는 세라믹 코팅을 더 잘 유지하여 열 손실을 줄이고 유지 관리 주기를 연장할 수 있습니다.
반도체 및 전자 산업
스퍼터링 타겟 기판, 결정 성장로 부품 또는 전력 장치 방열 기판에 사용됩니다. 낮은 특성은 실리콘 웨이퍼 또는 기타 박막 재료와 일치할 수 있으며, 샌드블래스트된 표면은 박막 증착의 균일성과 접착력을 향상시킵니다.
유리 제조 및 야금
유리 용해로 전극 또는 교반 부품에서 샌드블래스팅 표면은 용융 유리의 침식을 방지하는 동시에 기능적 요구 사항을 달성하는 데 필요한 힘을 제공합니다.

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