순수 탄탈륨 모세관튜브

최신 크로마토그래피(HPLC), 고급-생의학 임플란트(예: 마커 링, 혈관 스텐트), 반도체 초순수-미세유체 칩 및 고온-온도 센서에서 유체 채널의 직경은 일반적으로 밀리미터 또는 마이크론 수준으로 소형화됩니다. 매우 작은 공간에서 유체는 재료 부식, 미세 흐름 저항, 금속 이온 석출 오염(침출) 및 압력 제한에 대해 매우 엄격한 요구 사항을 제시합니다.

그림을 참조하여 볼 수 있듯이 당사의 고성능 이음매 없는 순수 탄탈륨 모세관(High-Precision Seamless Tantalum Capillary Tubes)은 고진공 전자선(EB)에 의해 여러 번 용융된 100% 고순도- 순수 탄탈륨(순도 99. 95% 이상)을 모재로 엄격하게 사용합니다. 다중-패스 냉간 인발(Cold Drawing) 및 정밀 마이크로-벽 축소 성형과 중간의 다-단계 고진공 어닐링이 결합된 이 제품은 미크론 수준에서 크기 허용 오차를 정밀하게 제어할 뿐만 아니라 초-평탄도와 균열이 없는-미세한{12}}모폴로지를 달성합니다. 이 일련의 모세혈관은 인체에 생체적합성이 매우 뛰어나며 평생 동안 강산에 저항할 수 있습니다. 이는 최첨단 유체 및 전극 시스템에 필수적인-물리적 채널입니다.

I. 뛰어난 핵심 장점(Elite Engineering Advantages)

초-높은 치수 정확도 및 균일한 벽 두께(미크론-레벨 공차): 그림에 표시된 것처럼 탄탈륨 모세관의 내경(ID) 및 외경(OD) 공차는 ± 0.01mm 또는 심지어 ± 0.005mm 내에서 정밀하게 제어할 수 있습니다. 매우 균일한 벽 두께는 파이프가 고압 및 고유량 부식성 매체를 통과할 때 국부적인 벽 두께로 인해 열 변형이나 응력 파열을 일으키지 않도록 보장합니다.

나노-수준의 평탄도 및 초-낮은 유체 저항(초-매끄러운 내부 표면): 특수 드로잉 다이와 초-윤활 성형 기술을 사용하여 탄탈륨 파이프는 기계적 긁힘, 주름 또는 튼살 없이 거울처럼 매끄러워집니다. 이는 유체 마이크로채널의 난류 및 유동 저항을 크게 증가시킬 뿐만 아니라 샘플 내 미량 화학 분자 또는 단백질의 물리적 흡착 잔류물을 효과적으로 방지하고 검출 신호의 교차-오염을 방지합니다.

탁월한 성형 가소성 및 Burr{0}}자유 플러시 끝면(Burr-Free & Formable Ends): 당사의 모세관은 연신율이 최대 25%에 달하는 완전히 어닐링된 연질 상태(어닐링 상태)입니다. 이는 반경이 매우 작은 고압 조인트를 사용하여 고객이 나중에 굽히거나 벌리거나 수축하거나 크림핑하는 데 사용할 수 있습니다. 모든 공장 파이프 피팅의 끝면은 정밀 연삭 및 초음파 디버링으로 처리되었으며 절개 부분은 평평하여 의료 및 정밀 기기의 비파괴 조립과 완벽하게 일치합니다.-

II. 핵심 기술 매개변수 및 화학 조성 매트릭스(Technical Parameter & Chemistry Matrix)

고객의 높은 추적성 표준을 충족하기 위해 핵심 기술 매개변수는 다음과 같이 분류됩니다.

기술 매개변수 및 화학 매트릭스

치수	기술 사양 및 매트릭스
기본 정보
재료 등급	R05200(비합금 고순도-순도 탄탈륨)\|옵션 R05400(전자빔 재용해 초-낮은 간격 순수 탄탈륨 등급)
표준	ASTM B521(이음매 없는 용접 탄탈륨 및 탄탈륨 합금 파이프에 대한 표준 사양)
공급현황	고진공 완전 소둔 소프트 상태(진공 소둔)
표면 마감	Bright Polished & Pickled) 내벽과 외벽의 거울 아래에 잔여물과 미세한 균열이 없는지 확인합니다.
명세서	특정 고정밀 애플리케이션에 맞게 맞춤설정 가능-(미세유체 설계에 대한 맞춤설정 지원-)
OD 범위	Φ 0.2mm - Φ 5.0mm
벽 두께	직경 Ø 10mm-Ø 500mm로 제작 가능(대변형 시에도 탁월한 벽 두께 공차 ± 0.05mm를 유지할 수 있음)
용인	OD/ID: ± 0.01mm(최대 ± 0.005mm로 제한) 벽 두께: ± 10%
기계	상온 20도에서 배관의 응력 완화 소둔 후의 표준 지표 (마이크로 채널의 높은 압력 저항 및 굽힘 강성 고려)
인장강도	205 MPa 이상(초소형 피팅의 우수한 자립-및 변형 저항-강성)
항복 강도	140MPa 이상
연장	25% 이상(초-세관을 세밀하게 구부리거나 원형으로 감을 때 벽에 균열이 생기지 않도록 보장)
화학 %	순도 99.95% 이상, 주요 취성가스 성분 및 감작성 중금속을 엄격하게 제어
Ta(매트릭스 순도)	99. 95% 이상(뛰어난 생체적합성 및 방부성 기질 제공-)
Nb(니오븀 불순물 제어)	0.05% 이하 (전기화학적 이질성을 방지하기 위해 최소한으로 조절)
Fe │ Ni │ Cr	Fe 0.005% 이하\|Ni 0.002% 이하\|Cr 0.002% 이하
O｜N｜H	O 0.015% 이하\|N 0.01% 이하\|H 0.0015% 이하(수소 취화 방지를 위해 15ppm 이내)

III. 린 냉간 인발 공정 및 표면 초{1}}청정 제어(제조 공정)

심리스 피어싱 및 멀티{0}}패스 드로잉: R05200 고순도 심리스 탄탈륨 튜브 블랭크를 시작점으로 20개 이상의 패스와 미세{5}}변형을 갖춘 다단계 정밀 냉간 드로잉으로 처리되었습니다. 미세-인장 박리가 발생하지 않도록 하기 위해 각 드로잉 패스 후에 입자 상태 추적이 수행됩니다.

고-진공 단간 어닐링: 각 드로잉이 임계 냉간 가공 경화점에 도달하기 전에 반제품은 -고진공 어닐링로로 보내지며 진공도는 10보다 높습니다.^-3Pa. 용광로 온도에서 균일한 어닐링,-결정립을 재정화하고 격자 왜곡을 풀어 후속 미세 드로잉에 필요한 완벽한 연신율을 유지합니다.

고정밀-내부 구멍 연마 및 산세척 활성화(내부 표면 CMP/부동태화): 특수 초-미세 고압-유체 연마재 또는 혼합산 용액(HF-HNO3)을 사용하여 모세관의 다단계 미세-연마 및 산세척을 수행합니다. 조밀하고 매우 균일한 오산화 탄탈륨(Ta2O5) 불활성 보호 필름의 얇은 층은 표면층의 고르지 않은 잔류물을 화학적으로 벗겨냄으로써 생성됩니다.

CNC 비-고정-길이 절단 및 플러시 끝면(정밀 절단 및 디버링): 정밀 CNC 워터젯 절단 또는 스트레스가 없는 -마이크로-절단을 도입하고 노치가 플러시되고 동일한 진원도가 좋습니다. 독자적인 초음파 심탈지 및 건조 공정을 거쳐 100레벨 클린 벤치(Clean Bench)에서 고{5}}배 현미경 검사(100% 사각-자유 단면 및 내부 구멍 플래시 검사)를 수행합니다.

IV. 국경을 넘나드는-국경 절단-에지 애플리케이션(고가치 시장 애플리케이션)

생의학 및 중재 의료 기기(의료 기기 및 임플란트): 심장 박동 조율기, 마이크로{1}}펌프 밸브 및 신경 전극의 외부 덮개 또는 전도성 채널로 사용됩니다. X-선 형광투시법에서 높은 밀도의 순수 탄탈륨은 우수한 현상/마커 밴드를 만듭니다.

고성능 액체 크로마토그래피(HPLC): 고성능 액체 크로마토그래프, 가스 크로마토그래프 및 질량 분석기(LC{3}}MS)의 고압 유체 도입 튜브, 샘플링 바늘 및 컬럼 연결 튜브로 널리 사용됩니다.- 강산/알칼리에 대한 강한 내식성은 검출 기준선에서 금속 이온 오염의 간섭을 완전히 제거합니다.

반도체 및 화학 미세유체공학(Semiconductor Microfluidics): 에칭 공정에서 고급 습식 에칭 및 고-부식성 시약(예: 강한 농도의 물왕 및 염산)을 위한 정밀한 미세{0}}용량 분배 채널입니다.